[发明专利]曝光系统、曝光装置以及曝光方法有效
| 申请号： | 202080021585.9 | 申请日： | 2020-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN113574459B | 公开（公告）日： | 2023-10-03 |
| 发明（设计）人： | 川上雄介;布川泰辉 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 褚瑶杨;于洁 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | [课题]在对具有感光性保护基团的化合物的层进行曝光而形成亲液/疏液图案后、在形成布线图案前，判断保护基团的脱离是否充分。[解决手段]一种曝光系统，其是对基板上的包含感光性保护基团的层进行曝光，在层中形成包含亲液区域和疏液区域的亲液/疏液图案的曝光系统，其中，具备：曝光装置，对层进行曝光；检查装置，以非接触方式对被曝光装置曝光的区域进行检查；以及控制装置，基于检查装置的检查结果，对曝光系统中包含的装置中的任意一个以上的装置进行控制。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 系统 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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