[发明专利]闭回路多输出射频(RF)匹配在审
| 申请号： | 202080034447.4 | 申请日： | 2020-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN113826185A | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 埃勒·Y·尤科;卡尔·弗雷德里克·利瑟 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠;张华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种用于对半导体晶片制造处理进行射频(RF)匹配的闭环多输出控制的设备和方法。一种用于向处理室的站提供信号的设备执行半导体制造处理。多个信号发生器产生具有第一和第二频率的信号。测量电路测量电压驻波比(VSWR)。匹配反射优化器具有被配置为响应于来自测量电路的输出信号而被调整的电抗组件。 | ||
| 搜索关键词： | 回路 输出 射频 rf 匹配 | ||
【主权项】：
暂无信息
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