[发明专利]成膜装置在审
| 申请号： | 202080040665.9 | 申请日： | 2020-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN113924384A | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 小野大祐 | 申请（专利权）人： | 芝浦机械电子装置株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/50;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 王蕊;臧建明 |
| 地址： | 日本神奈川县横浜市荣区笠间二*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种成膜装置，其可形成抑制光学特性的恶化的平坦的膜。所述成膜装置是在工件10上形成膜的成膜装置，其包括：搬送部30，具有循环搬送工件10的旋转台31；成膜处理部40，具有包含构成膜的材料的靶42、及将被导入靶42与旋转台31之间的溅射气体等离子体化的等离子体产生器，利用等离子体对靶42进行溅射而在工件10上形成膜；以及离子照射部60，照射离子；搬送部30以工件10穿过成膜处理部40与离子照射部60的方式循环搬送工件10，离子照射部60对工件10上的形成途中的膜照射离子。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
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