[发明专利]防止发生褶皱的铜箔、包括该铜箔的电极、包括该电极的二次电池以及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202080041738.6 申请日: 2020-11-13
公开(公告)号: CN113924669A 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 金善花;李颜娜;金昇玟 申请(专利权)人: SK纳力世有限公司
主分类号: H01M4/66 分类号: H01M4/66;H01M10/0525;C25D1/04
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 崔炳哲
地址: 韩国全*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的一实施例提供一种铜箔,包括:铜层,具有毛面和光面;以及防锈膜,配置在所述铜层上,所述铜箔以绝对值为基准具有0.5至25Mpa的残余应力(residual stress),所述铜层包含铜和碳(C),在所述铜层中,所述碳(C)的含量为2至20ppm,所述铜层具有包含结晶质(crystalline)粒子的(111)面、(200)面、(220)面以及(311)面,所述(220)面的衍射强度在所述(111)面、所述(200)面、所述(220)面以及所述(311)面的衍射强度之和中所占的比率为10至40%,在常温所述(220)面的所述结晶质粒子具有70至120nm的平均粒子尺寸。
搜索关键词: 防止 发生 褶皱 铜箔 包括 电极 二次 电池 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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