[发明专利]真空处理装置在审
| 申请号： | 202080042799.4 | 申请日： | 2020-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN113994021A | 公开（公告）日： | 2022-01-28 |
| 发明（设计）人： | 田代征仁;杉山成 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;B25J9/06 |
| 代理公司： | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人： | 齐永红;秦岩 |
| 地址： | 日本神奈川*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种具有即使在真空室和处理单元之间存在连通管时也有良好的可维护性的结构的真空处理装置。对被处理基板(Sw)的处理面实施规定的真空处理的真空处理装置(SM)，其具有：真空室(Pc3)，其设置有被处理基板，以处理面所朝的方向为上方，在上壁形成有朝向处理面的安装开口(12)；处理单元(CU)，其用于实施真空处理；以及连通管(3)，其设置于真空室和处理单元之间，具有规定长度；该真空处理装置构成为经连通管对真空气氛的真空室内的被处理基板实施规定的真空处理，处理单元上连接有绕与上下方向正交并延伸的旋转轴(72)摆动的转动臂(74)，还具有将真空室和连通管或处理单元和连通管有选择地锁合的锁合装置(41～44、5)。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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