[发明专利]前驱体供应柜有效
| 申请号： | 202080045932.1 | 申请日： | 2020-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN114072538B | 公开（公告）日： | 2023-08-22 |
| 发明（设计）人： | P·索恩宁;J·韦斯林;M·马里拉 | 申请（专利权）人： | 青岛四方思锐智能技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/448 | 分类号： | C23C16/448;F17C13/08 |
| 代理公司： | 北京市竞天公诚律师事务所 11770 | 代理人： | 徐民 |
| 地址： | 266000 山东省青岛市中国(山东)自由贸易试验区*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及用于容纳一个或多个前驱体容器(80)的前驱体供应柜(2)，前驱体供应柜(2)具有限定内部柜空间(1)的柜壁(3、4、6、7、8、9)。前驱体供应柜(2)包括通气排出连接件(20、21、22)、一个或多个通气入口连接件(10、11)、用于容纳前驱体容器(80)的两个或更多个单独的气密式前驱体供应腔室(30)，该通气排出连接件(20、21、22)布置成将通气气体从内部柜空间(1)排出。气密式前驱体供应腔室(30)布置在前驱体供应柜(2)的内部柜空间(1)内部，使得前驱体供应柜(2)的包围单独的气密式前驱体供应腔室(30)的内部柜空间(1)是通气的。 | ||
| 搜索关键词： | 前驱 供应 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
