[发明专利]具有减少的等离子体电弧的处理腔室在审
| 申请号： | 202080049741.2 | 申请日： | 2020-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN114175207A | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | F·吴;A·A·哈贾;S·哈;V·K·普拉巴卡尔;G·巴拉苏布拉马尼恩 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 付尉琳;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 处理系统包括腔室主体、基板支撑件和盖组件。所述基板支撑件位于所述腔室主体中并且包括第一电极。所述盖组件定位在腔室主体上方并限定处理容积。所述盖组件包括面板、定位于所述面板和所述腔室主体之间的第二电极、以及定位于所述第二电极和所述处理容积之间的绝缘构件。电源系统耦接所述第一电极和所述面板，并且设置为在所述处理容积中生成等离子体。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 减少 等离子体 电弧 处理 | ||
【主权项】：
暂无信息
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