[发明专利]基片处理装置、喷嘴检查方法和存储介质在审
| 申请号： | 202080055978.1 | 申请日： | 2020-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN114269481A | 公开（公告）日： | 2022-04-01 |
| 发明（设计）人： | 滨田佳志;只友浩贵;桾本裕一朗;羽山隆史 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | B05B15/50 | 分类号： | B05B15/50;G01N21/94 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的基片处理装置包括：从释放口对下方的基片释放处理液的液喷嘴；对液喷嘴的释放口的附近的全周进行拍摄的拍摄部；和控制部，控制部执行：图像获取控制，其获取在拍摄部中拍摄到的液喷嘴的释放口附近的全周的检查图像；和评价控制，其根据液喷嘴的释放口附近的全周的检查图像，进行附着物在液喷嘴的释放口的附着状态的评价。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 喷嘴 检查 方法 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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