[发明专利]场分面系统、光学布置和光刻装置在审
| 申请号： | 202080058558.9 | 申请日： | 2020-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN114341736A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | G·鲁道夫;J·罗西尔斯 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B26/08 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于光刻装置(100A、100B)的场分面系统(300A、300B、300C、300D、300E)，包括：光学元件(302)，其中该光学元件(302)包括具有光学有效表面(304)的基座区段(308)，和配置在该基座区段(308)的背向该光学有效表面(304)的后侧(310)处的多个拉杆区段(312、312A‑312D、314、314A‑314D)；以及两个或更多个致动元件(330、330A‑330J、332)，其借助作为拉杆的该拉杆区段(312、312A‑312E、314、314A‑314E)设置成分别施加弯曲力矩(M)至该基座区段(308)，以使该基座区段(308)弹性变形，从而改变该光学有效表面(304)的曲率半径(r)，其中，沿该光学元件(302)的长度方向(y)观察，所述致动元件(330、330A‑330J、332)串联布置。 | ||
| 搜索关键词： | 场分面 系统 光学 布置 光刻 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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