[发明专利]膜、膜的制造方法、覆金属层叠体和被覆金属导体在审
申请号: | 202080060230.0 | 申请日: | 2020-08-24 |
公开(公告)号: | CN114302908A | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
发明(设计)人: | 笠井涉;细田朋也;光永敦美;寺田达也;结城创太 | 申请(专利权)人: | AGC株式会社 |
主分类号: | C08J7/04 | 分类号: | C08J7/04;C09D127/18;C09D179/08;B32B15/00;B32B15/082;B32B15/088;B32B27/30;B32B27/34;C08L79/08 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张佳鑫;董庆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供耐热性优异、不易产生翘曲且粘接力高的膜及其制造方法、以及使用该膜形成的覆金属层叠体和被覆金属导体。本发明的膜具有芳族性聚酰亚胺基膜、以及分别设置在所述基膜的两面上的包含含有基于四氟乙烯的单元和基于全氟(烷基乙烯基醚)的单元的聚合物和芳族性聚合物的层。 | ||
搜索关键词: | 制造 方法 金属 层叠 被覆 导体 | ||
【主权项】:
暂无信息
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