[发明专利]Li离子导体及其制造方法在审
| 申请号： | 202080063450.9 | 申请日： | 2020-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN114365318A | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | 金井和章;斋藤健 | 申请（专利权）人： | 株式会社钟化 |
| 主分类号： | H01M10/0562 | 分类号： | H01M10/0562;H01M10/0525;H01B1/08;H01B1/06;C04B35/50 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明为一种Li离子导体，其具有包含Li、La、Zr及O的石榴石型复合金属氧化物相(L)，所述Li离子导体在使用CuKα射线的X射线衍射测定中，在2θ＝13.8°±1°及15.2°±1°中的至少一处具有衍射峰。该Li离子导体具有与前述相(L)不同的含金属相(K)，该相(K)优选包含卤素元素及Li。 | ||
| 搜索关键词： | li 离子 导体 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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