[发明专利]基板支架以及基板处理装置在审

专利信息
申请号: 202080067282.0 申请日: 2020-08-20
公开(公告)号: CN114430780A 公开(公告)日: 2022-05-03
发明(设计)人: 关正也;铃木洁;佐竹正行 申请(专利权)人: 株式会社荏原制作所
主分类号: C25D17/06 分类号: C25D17/06;C25D17/00;C25D7/00;C23C18/16;H01L21/683;H01L21/687
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张丰桥
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供即便在基板从支承面承受摩擦力等的情况下也能够进行基板的定位的基板支架以及基板处理装置。本发明的基板支架(200)具备:第一保持部件(300);第二保持部件(500),其用于与第一保持部件(300)一起夹持基板(W);3个以上的定位部件(360),其具有用于与基板(W)的侧端部接触的接触面(342);第一移动部件(380),其维持理想轴线(L)与各个定位部件(360)的接触面(376)之间的各距离相等的状态,并具有多个卡合部(384),该多个卡合部(384)与各个定位部件(360)卡合,使定位部件(360)移动;以及第一施力部件(310),其对第一移动部件(380)施力,第一移动部件(380)将第一施力部件(310)的作用力传递至各个定位部件(360),通过传递的作用力以接触面(376)向理想轴线(L)接近的朝向对定位部件(360)施力。
搜索关键词: 支架 以及 处理 装置
【主权项】:
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