[发明专利]用于辐射源的设备在审
| 申请号： | 202080072810.1 | 申请日： | 2020-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN114557136A | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | M·里彭;P·P·A·A·布罗姆;R·德鲁伊特;M·V·格里克-吉伦;G·梅利索尔戈斯;T·J·斯考特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种容纳装置，该容纳装置被设置为容纳产生激光的等离子体辐射源的废产物。该容纳装置包括：第一部分，限定腔室；以及第二部分，至少部分地对腔室的入口进行限定。在使用中，废产物通过入口进入腔室。第二部分由包括陶瓷材料的材料形成。该容纳装置在用于光刻系统的辐射源中特别有用。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 辐射源 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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