[发明专利]辐射源测试在审
| 申请号： | 202080076759.1 | 申请日： | 2020-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN114631061A | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | R·A·布尔德特;T·P·达菲 | 申请（专利权）人： | 西默有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种生成用于辐射源的测试的方法，该辐射源用于光刻设备，该方法包括以下步骤：接收与辐射源的多个发射图案相对应的数据。该方法还包括以下步骤：分析数据以确定用于配置一个或多个另外的发射图案的参数，该一个或多个另外的发射图案用于测试辐射源。参数被确定为：使得辐射源当执行使用参数所配置的一个或多个另外的发射图案时的稳定性与辐射源当执行多个发射图案时的稳定性基本上相同或在相对于辐射源当执行多个发射图案时的稳定性的预定界限内。另外，参数被确定为：使得一个或多个另外的发射图案当由辐射源执行时的总持续时间将小于多个发射图案当由辐射源执行时的持续时间。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射源 测试 | ||
【主权项】：
暂无信息
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