[发明专利]衬底支撑装置、光刻设备、用于操纵电荷分布的方法以及用于制备衬底的方法在审
| 申请号： | 202080079302.6 | 申请日： | 2020-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN114730135A | 公开（公告）日： | 2022-07-08 |
| 发明（设计）人： | K·G·温克尔斯;L·H·J·史蒂文斯;D·D·范德沃特;G·A·L·林克奈特;N·坦卡特;D·W·哈伯特;R·A·C·M·比伦斯;E·J·C·伯斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 衬底支撑装置被配置为支撑衬底。衬底支撑装置包括从衬底支撑装置的基表面突出的多个突节。突节具有处于用于支撑衬底的下表面的平面中的远端部，在衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间具有间隙。衬底支撑装置包括液体供应通道，该液体供应通道用于向间隙供应传导性液体，以便将衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间的间隙进行桥接，由此允许电荷在衬底支撑装置与衬底之间通过。衬底支撑装置具有受控电势，使得在衬底的下表面处的电荷分布能够被操纵。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 支撑 装置 光刻 设备 用于 操纵 电荷分布 方法 以及 制备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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