[发明专利]发光装置的制造方法和发光装置在审
申请号: | 202080090057.9 | 申请日: | 2020-12-23 |
公开(公告)号: | CN114902435A | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 三贺大辅 | 申请(专利权)人: | 日亚化学工业株式会社 |
主分类号: | H01L33/62 | 分类号: | H01L33/62;H01L25/18;H01L25/04;H01L21/60 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 韩锋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明一实施方式涉及一种发光装置的制造方法,包含将在同一面侧具备p侧电极(31)和n侧电极(32)的发光元件(30)设置在基材(10)上的工序。特别是,在本发明的一实施方式中,依次包含:在所述基材(10)上,形成正极侧的配线晶种层(11)和负极侧的配线晶种层(12)的步骤;在所述基材(10)上的载置有所述发光元件(30)的区域内形成抗蚀图案(20)的至少一部分的步骤;以所述p侧电极(31)和所述正极侧的配线晶种层(11)分隔对置,并且所述n侧电极(32)和所述负极侧的配线晶种层(12)分隔对置的方式,将所述发光元件(30)载置于所述抗蚀图案(20)上的步骤;以所述抗蚀图案(20)为掩膜,对所述正极侧的配线晶种层(11)和与该正极侧的配线晶种层(11)分隔配置的所述p侧电极(31)之间、以及所述负极侧的配线晶种层(12)和与该负极侧的配线晶种层(12)分隔配置的所述n侧电极(32)之间进行电镀接合的步骤;除去所述抗蚀图案(20)的步骤。 | ||
搜索关键词: | 发光 装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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