[发明专利]集成电路在审

专利信息
申请号: 202110031315.2 申请日: 2021-01-11
公开(公告)号: CN113053873A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 彭士玮;曾健庭 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 在一个实施例中,一种集成电路包括第一图案金属层;形成于第一图案金属层之上的第二图案金属层,其中此第二图案金属层包括在第一方向上延伸且少于9个的第二复数个金属轨道;安置在第一图案金属层与第二图案金属层之间的第三图案金属层,此第三图案金属层包括第一金属轨道区段、在第二方向上偏离第一金属轨道区段的第二金属轨道区段,及在第二方向上偏离第二金属轨道区段的第三金属轨道区段,其中第二复数个金属轨道以及第一金属轨道区段、第二金属轨道区段及第三金属轨道区段中的每一者的至少一部分在第二方向上是在双单元高度以内。
搜索关键词: 集成电路
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110031315.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top