[发明专利]一种掩膜板有效

专利信息
申请号: 202110031656.X 申请日: 2021-01-11
公开(公告)号: CN112684660B 公开(公告)日: 2023-01-24
发明(设计)人: 孟小龙 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: G03F1/54 分类号: G03F1/54;G03F1/76
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 唐秀萍
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请实施例公开了一种掩膜板,应用于曝光机,所述掩膜板包括遮光层,所述遮光层包括透光图案,所述透光图案包括若干个缝隙,每一所述缝隙至少包括两条相互平行的第一边,以及和两条所述第一边的相同一端连接的第一侧边,所述第一侧边设置有多个凹槽,呈波纹状。通过上述方式,使得在应用时,通过所述凹槽的衍射光叠加不能对光阻产生作用,弧形衍射光叠加区的衍射光能量和线性衍射光叠加区的衍射光能量相当,保证在削弱衍射光叠加现象的同时不影响弧形区域图型的平滑性,实现taper角均匀。
搜索关键词: 一种 掩膜板
【主权项】:
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