[发明专利]一种掩膜板有效
申请号: | 202110031656.X | 申请日: | 2021-01-11 |
公开(公告)号: | CN112684660B | 公开(公告)日: | 2023-01-24 |
发明(设计)人: | 孟小龙 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/54 | 分类号: | G03F1/54;G03F1/76 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 唐秀萍 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本申请实施例公开了一种掩膜板,应用于曝光机,所述掩膜板包括遮光层,所述遮光层包括透光图案,所述透光图案包括若干个缝隙,每一所述缝隙至少包括两条相互平行的第一边,以及和两条所述第一边的相同一端连接的第一侧边,所述第一侧边设置有多个凹槽,呈波纹状。通过上述方式,使得在应用时,通过所述凹槽的衍射光叠加不能对光阻产生作用,弧形衍射光叠加区的衍射光能量和线性衍射光叠加区的衍射光能量相当,保证在削弱衍射光叠加现象的同时不影响弧形区域图型的平滑性,实现taper角均匀。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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