[发明专利]用于稳定反应室压力的系统和方法在审
申请号: | 202110040269.2 | 申请日: | 2021-01-13 |
公开(公告)号: | CN113151810A | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 芝英一郎 | 申请(专利权)人: | ASMIP私人控股有限公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C16/455 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种反应器系统,可以包括:第一气体源;第二气体源;以及反应室,该反应室流体联接到第一气体源和第二气体源,其中第一气体和第二气体可以分别从第一气体源和第二气体源供应到反应室,以实现反应室压力的稳定性。所述反应器系统还可以包括:排气管线,该排气管线流体联接至反应室并位于反应室下游;通风管线,该通风管线流体联接到第一和/或第二气体源,并且流体联接到排气管线,其中通风管线旁路反应室;联接到通风管线的压力监测器,该压力监测器配置成监测通风管线内的通风管线压力;和/或通风管线传导控制阀,该通风管线传导控制阀联接到通风管线并配置成响应于来自压力监测器的反馈而进行调节。 | ||
搜索关键词: | 用于 稳定 反应 压力 系统 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASMIP私人控股有限公司,未经ASMIP私人控股有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110040269.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的