[发明专利]投射光学系统和投影仪有效
| 申请号： | 202110063256.7 | 申请日： | 2021-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN113219771B | 公开（公告）日： | 2023-01-17 |
| 发明（设计）人： | 守国荣时;渡边果步 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/14 | 分类号： | G03B21/14;G02B13/00;G02B13/16;G02B13/18;G02B7/04 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李庆泽;邓毅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 投射光学系统和投影仪。能够缩短投射距离。投射光学系统具有：第1光学系统；以及第2光学系统，其具有光学元件，配置于第1光学系统的放大侧。第1光学系统具有第1透镜和配置于第1透镜的缩小侧的第2透镜。光学元件具有第1透过面、配置于第1透过面的放大侧的反射面、以及配置于反射面的放大侧的第2透过面。第1透镜的两面是非球面。第2透镜的两面是非球面。光学元件、第1透镜和第2透镜中的至少一方在沿着第1光学系统的第1光轴的光轴方向上移动。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 光学系统 投影仪 | ||
【主权项】：
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