[发明专利]显示装置及显示装置的制备方法有效

专利信息
申请号: 202110068168.6 申请日: 2021-01-19
公开(公告)号: CN112736097B 公开(公告)日: 2023-10-03
发明(设计)人: 翟玉浩 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 远明
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种显示装置及显示装置的制备方法,所述显示装置包括:衬底基板;栅极,设置于所述衬底基板上;栅极绝缘层,设置于所述衬底基板上且包覆所述栅极;半导体层,设置于所述栅极绝缘层上;源极和漏极,设置于所述栅极绝缘层上且分别位于所述半导体层的两端;其中,所述源极和所述漏极在所述衬底基板上的正投影与所述栅极在所述衬底基板上的正投影之间互不重叠。本发明通过使得所述源极和所述漏极的正投影与所述栅极的正投影之间互不重叠,避免了光线向所述半导体层照射时被所述栅极、所述源极或者所述漏极遮挡,从而扩大了所述半导体层的感光面积,提高了所述显示装置对光的敏感性和响应速度,提升产品质量。
搜索关键词: 显示装置 制备 方法
【主权项】:
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