[发明专利]投射光学系统和投影仪在审
| 申请号： | 202110074090.9 | 申请日： | 2021-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN113156746A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 守国荣时 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/14 | 分类号： | G03B21/14;G03B21/28;G02B13/00;G02B13/16;G02B13/18 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李庆泽;邓毅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 投射光学系统和投影仪。能够在投射方向上实现小型化。投射光学系统具有：第1光学系统，其具有多个透镜和偏转元件；以及第2光学系统，其具备具有凹形状的反射面的光学元件，配置于所述第1光学系统的放大侧。偏转元件配置在第1光学系统中相邻的透镜彼此之间设置的多个空气间隔中的、第1光学系统的轴上面间距离最大的空气间隔中。第1光学系统具有相对于偏转元件配置于缩小侧的第1部、以及相对于偏转元件配置于放大侧的第2部。第1部的光轴即第1光轴部分和第2部的光轴即第2光轴部分交叉。第2部(36)具有3个透镜。第2部的长度比第1部的长度短。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 光学系统 投影仪 | ||
【主权项】：
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