[发明专利]分析装置以及分析装置的控制方法在审
申请号: | 202110083416.4 | 申请日: | 2021-01-21 |
公开(公告)号: | CN113203765A | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | 坂前浩 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | G01N23/2252 | 分类号: | G01N23/2252;G01N23/2251;G01N23/20091 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种能够提高分析作业的效率的分析装置以及分析装置的控制方法。分析装置具备:照射装置,其向试样的表面照射电子射线;多个检测器,所述多个检测器分别检测从试样的表面发出的多个检测信号;显示部,其显示与多个检测信号分别对应的多个观察像;以及控制部,其控制照射装置和显示部。分析装置具有将多个观察像中的至少2个观察像同时排列地显示在显示部中的同时显示模式。分析装置还具备存储部,该存储部用于保存包含至少2个观察像的显示条件的观察条件数据。在同时显示模式下,控制部基于保存在存储部中的观察条件数据,使至少2个观察像显示在显示部中。 | ||
搜索关键词: | 分析 装置 以及 控制 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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