[发明专利]投射光学系统和投影仪有效
| 申请号： | 202110087257.5 | 申请日： | 2021-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN113176698B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 柳泽博隆 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/14 | 分类号： | G03B21/14;G02B13/00;G02B13/16;G02B13/18 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李庆泽;邓毅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 投射光学系统和投影仪，能够缩短投射距离。投射光学系统具有：第1光学系统；第2光学系统，其具有第1光学元件和第2光学元件，配置于第1光学系统的放大侧；以及配置机构，其选择性地将第1光学元件和第2光学元件中的一方配置于第1光学系统的第1光轴上。第1光学元件具有第1入射面、配置于第1入射面的放大侧的第1反射面、以及配置于第1反射面的放大侧的第1射出面。第2光学元件具有第2入射面、配置于第2入射面的放大侧的第2反射面、以及配置于第2反射面的放大侧的第2射出面。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 光学系统 投影仪 | ||
【主权项】：
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