[发明专利]投射光学系统和投影仪有效
申请号: | 202110088018.1 | 申请日: | 2021-01-22 |
公开(公告)号: | CN113176699B | 公开(公告)日: | 2023-02-21 |
发明(设计)人: | 守国荣时 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G03B21/14 | 分类号: | G03B21/14;G03B21/28;G02B13/00;G02B13/16;G02B13/18 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 邓毅;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供投射光学系统和投影仪,能够缩短投射距离。投射光学系统具有:第1光学系统;以及第2光学系统,其具有光学元件并且配置在第1光学系统的放大侧。光学元件具有第1透过面、配置在第1透过面的放大侧的第1反射面、配置在第1反射面的放大侧的第2反射面以及配置在第2反射面的放大侧的第2透过面。第2反射面具有凹形状。第1光学系统的第1光轴与第2反射面的第2光轴交叉。 | ||
搜索关键词: | 投射 光学系统 投影仪 | ||
【主权项】:
暂无信息
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