[发明专利]一种可自动泄压的用于多晶硅生产的还原炉

摘要

本发明涉及一种可自动泄压的用于多晶硅生产的还原炉，包括主体、排气管、密封固定机构和泄压机构，所述密封固定机构设置在排气管上，所述泄压机构设置在排气管内，该可自动泄压的用于多晶硅生产的还原炉，通过密封固定机构实现排气管的固定和密封，通过泄压机构进行排气泄压，与现有的固定机构相比，该机构不仅对排气管进行夹紧固定，同时对排气管与主体的连接处进行密封，提高了实用性，与现有的采用气压表和电磁阀进行泄压的方式相比，该泄压机构采用纯机械结构，提高了装置的稳定性和使用寿命，同时该机构可对主体内的空气进行过滤，避免灰尘堵塞泄压组件，且通过泄压机构的运行，对滤网进行敲击，从而避免滤网堵塞，实现更好的过滤效果。