[发明专利]化合物、聚合物、图案形成材料、图案形成方法及半导体装置的制造方法在审
| 申请号： | 202110095900.9 | 申请日： | 2021-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN114195643A | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 笹尾典克;浅川钢儿;杉村忍 | 申请（专利权）人： | 铠侠股份有限公司 |
| 主分类号： | C07C69/76 | 分类号： | C07C69/76;C08F20/30;G03F7/004;G03F7/09 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 杨林勳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本申请发明涉及一种化合物、聚合物、图案形成材料、图案形成方法及半导体装置的制造方法。本发明的图案形成材料在如下情况下使用，即，在具有被加工膜的衬底的被加工膜上，使用图案形成材料形成有机膜并进行图案化之后，将使金属化合物含浸在有机膜中所得的复合膜作为掩模图案而对被加工膜进行加工时，且本发明的图案形成材料含有包含下述通式(3)所表示的单体单元的聚合物。[化1] |
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| 搜索关键词： | 化合物 聚合物 图案 形成 材料 方法 半导体 装置 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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