[发明专利]电子束光刻机在审

专利信息
申请号: 202110102522.2 申请日: 2021-01-26
公开(公告)号: CN112947008A 公开(公告)日: 2021-06-11
发明(设计)人: 辛振祥;辛硕 申请(专利权)人: 辛振祥
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 宁夏三源鑫知识产权代理事务所(普通合伙) 64105 代理人: 孙彦虎
地址: 016200 内蒙古自治区鄂尔*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要: 一种电子束光刻机,包括真空装置、支撑架、光电阴极板、光线及光束引导装置、第一光源、第二光源、电磁透镜及硅片承载台,光电阴极板覆盖在光束引导腔体的上开口上,第一光线引导接收腔体、第二光线引导接收腔体设置在光束引导腔体的两侧,且靠近上开口,第一光源、第二光源对应的安装在第一光线引导接收腔体、第二光线引导接收腔体中,且第一光源、第二光源发射的光线照射在光电阴极板上,且从光电阴极板上反射的光线对应的射入第二光线引导接收腔体、第一光线引导接收腔体中,如此将反射光线导入对侧的光线引导接收腔体中,这样光电阴极板上的反射光就不会被反射到工作台的硅片上,能有效的防止了光电阴极板的反射光到光刻胶上产生有害曝光。
搜索关键词: 电子束光刻
【主权项】:
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