[发明专利]紫外发光二极管外延片及其制造方法有效
申请号: | 202110103265.4 | 申请日: | 2021-01-26 |
公开(公告)号: | CN113161457B | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
发明(设计)人: | 乔楠;李昱桦;刘源 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(苏州)有限公司 |
主分类号: | H01L33/14 | 分类号: | H01L33/14;H01L33/06;H01L33/12;H01L33/00 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 吕耀萍 |
地址: | 215600 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本公开提供了一种紫外发光二极管外延片及其制造方法,属于半导体技术领域。所述紫外发光二极管外延片包括衬底、以及依次层叠在衬底上的缓冲层、未掺杂的AlGaN层、N型层、有源层和P型层,所述紫外发光二极管还包括设置在所述有源层和所述P型层之间的电子限制层,所述电子限制层为AlGaN/MgN/InAlGaN/MgN/AlN层。该紫外发光二极管外延片可以提高电子和空穴的辐射复合效率,从而提高紫外发光二极管的内量子效率。 | ||
搜索关键词: | 紫外 发光二极管 外延 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华灿光电(苏州)有限公司,未经华灿光电(苏州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110103265.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。