[发明专利]光罩杂质去除设备和光罩杂质去除方法在审
| 申请号： | 202110104814.X | 申请日： | 2021-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN112934850A | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 王嘉才;游聪敏;孙天赐;刘兆亮 | 申请（专利权）人： | 泉芯集成电路制造(济南)有限公司 |
| 主分类号： | B08B5/04 | 分类号： | B08B5/04;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 刘曾 |
| 地址： | 250000 山东省济南市*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供了一种光罩杂质去除设备和光罩杂质去除方法，涉及半导体技术领域，该光罩杂质去除设备，包括承载装置和真空吸附枪，承载装置用于承载光罩，真空吸附枪与承载装置连接，用于吸附光罩表面的杂质。本发明将光罩放置在承载装置上，然后通过真空吸附枪吸附光罩表面的杂质，从而利用吸附的方式去除光罩表面的杂质，而吸附过程中不会出现微粒滚动现象，避免了刮伤光罩的表面，同时，由于吸附的特性，使得杂质不会因为气流陷在光罩内，且能够对陷入光罩内的杂质进行移除，能够有效去除光罩表面的杂质，保证了光罩的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 杂质 去除 设备 方法 | ||
【主权项】：
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