[发明专利]一种硅晶圆结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110104908.7 申请日: 2021-01-26
公开(公告)号: CN112786676A 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 徐建卫;汪鹏;李蜀文 申请(专利权)人: 赫芯(浙江)微电子科技有限公司
主分类号: H01L29/04 分类号: H01L29/04;H01L21/02;B28D5/04
代理公司: 上海百一领御专利代理事务所(普通合伙) 31243 代理人: 王奎宇;杨孟娟
地址: 314214 浙江省嘉兴市平湖*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本申请公开了一种硅晶圆结构及其制造方法,该硅晶圆结构包括:切割面以及111腐蚀面,所述切割面和所述111腐蚀面的夹角为45°。该制造方法,包括采用100晶向生长的硅单晶棒,偏离100面9.74°切割形成切割面;腐蚀得到非对称的111腐蚀面,其中一111腐蚀面与所述切割面的夹角为45°。本申请形成一切割面,然后在腐蚀形成111腐蚀面,克服了现有技术中111面和100面夹角是54.74°而非45°的问题,实现了切割面和111腐蚀面的夹角为45°的要求,可获得45°反射镜,满足市场使用需求。
搜索关键词: 一种 硅晶圆 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
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