[发明专利]沉积掩模在审

专利信息
申请号: 202110105063.3 申请日: 2017-03-23
公开(公告)号: CN112952028A 公开(公告)日: 2021-06-11
发明(设计)人: 孙晓源;朴宰奭 申请(专利权)人: LG伊诺特有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/00;C23C14/04
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 杜诚;刘敏
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种沉积掩模,包括金属板,该金属板包括:具有多个通孔和介于通孔之间的桥的有效区域;设置在有效区域的外部的非有效区域;设置在非有效区域中且位置靠近金属板的一个纵向端部的第一凹槽;以及位置靠近与该一个纵向端部相对的另一个纵向端部的第二凹槽,其中,当在该一个纵向端部和该另一个纵向端部处在纵向方向上以0.7kgf的力拉伸金属板时,通过等式2计算的扭曲指数α在0.85至1.15的范围内,<等式2>α=2B/(d1+d2)。其中,d1是在介于第一凹槽和与第一凹槽相邻的有效区域之间的非有效区域处测量的金属板的宽度,d2是在介于第二凹槽和与第二凹槽相邻的有效区域之间的非有效区域处测量的金属板的宽度,B是在有效区域的中间点处测量的金属板的宽度。
搜索关键词: 沉积
【主权项】:
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