[发明专利]一种制备周期减半的亚微米光栅的方法有效
| 申请号： | 202110122787.9 | 申请日： | 2021-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN112782795B | 公开（公告）日： | 2022-06-07 |
| 发明（设计）人： | 张登英;邢文强;张立春;赵风周;李锦绣;郭安琪 | 申请（专利权）人： | 鲁东大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 264025 山东省烟台*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制备周期减半的亚微米光栅的方法，涉及光学、微细加工、先进制造等领域，它解决了现有的光栅复制技术只能进行1:1光栅复制的问题，本发明利用一块亚微米母光栅制备出了周期减半的亚微米子光栅。本发明的方法为：首先制备出亚微米母光栅的PDMS软模板，同时在干净的基片上制备出所要使用的材料薄膜；然后将亚微米母光栅的PDMS软模板与准备好的材料薄膜紧密贴合，再将两者整体置于加热板上加热5分钟，加热温度要高于所用薄膜材料的玻璃化转变温度；最后将两者从加热板上取下并冷却至室温，分离基片和PDMS软模板，便在基片上制备出了周期减半的亚微米子光栅。本发明适用于亚微米光栅的制备领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 周期 减半 微米 光栅 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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