[发明专利]版图修正方法及系统、掩模版、设备和存储介质

摘要

一种版图修正方法及系统、掩模版、设备和存储介质，方法包括：获取芯片设计版图，包括在第一方向上相邻接的第一标准单元区和第二标准单元区，在第二方向上，第一标准单元为第二标准单元的高度的整数倍，第一标准单元区有若干第一有源区，第二标准单元区有若干第二有源区，在第一标准单元区和第二标准单元区内部，第一有源区和相邻第二有源区在第二方向上的边界相齐平，第一方向和第二方向相垂直；确定第一标准单元区和第二标准单元区的交界位置；在交界位置处，对版图层中的目标图形进行光学邻近修正，用于去除位于交界位置处的边界区域中的目标图形。完成修正后的芯片设计版图既能获得较小尺寸的标准单元区，且同时满足低功耗和高性能的需求。