[发明专利]一种用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置和光刻机在审
| 申请号： | 202110130278.0 | 申请日： | 2021-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN114815511A | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 金成昱;梁贤石;林锺吉;金在植;张成根;丁明正;刘强;贺晓彬;白国斌;刘金彪 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人： | 刘广达 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置和光刻机，包括：校正模块，其位于狭缝式曝光带测量区域与狭缝式曝光带的相反侧，其中，狭缝式曝光带测量区域位于狭缝式曝光带的两侧；在所述校正模块和所述狭缝式曝光带测量区域之间，具有狭缝式曝光带控制区域，滤光板可移动至所述狭缝式曝光带控制区域中；其中，校正模块和滤光板在朝向所述曝光狭缝的方向上都是可移动的。通过可移动的校正模块和滤光板，控制滤光板在狭缝式曝光带控制区域移动改变光强和焦距，从而改善狭缝均匀性，最小化由于狭缝均匀性改变而产生的问题。通过对狭缝式曝光带均匀性的调整，能够精细的调整关键尺寸一致，从而提升产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 调节 狭缝 曝光 均匀 装置 光刻 | ||
【主权项】：
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