[发明专利]一种高矫顽力B掺杂FePt薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 202110137365.9 申请日: 2021-02-01
公开(公告)号: CN112962122B 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 应耀;游阿峰;郑精武;车声雷;王慧斌;乔梁;余靓;李旺昌;李涓 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C25D3/50 分类号: C25D3/50;C25D5/50;C25D9/08;H01F41/22;H01F41/26
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 邱启旺
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开一种通过电沉积和带电化学镀协同制备多层膜扩散获得高矫顽力B掺杂FePt薄膜的方法。一定含量的和多层结构使FePtB薄膜退火后的矫顽力达23kOe。比现有的电沉积薄膜矫顽力大的多。交替的多层结构[Pt/FeB]n薄膜通过氢气氛围退火促进永磁相的形成,但薄膜内仍存在小部分软磁相,形成两相共存,两相共存提升了薄膜的矫顽力。本发明通过控制通电时间、电流密度以及薄膜层数可以调控薄膜厚度和矫顽力大小,也可以通过配制的镀液浓度调控各电沉积元素的含量,极大拓展了应用范围。同时,电沉积具有设备简单,操作方便的特点,提升了实用性价值。在尺寸方面可以实现几微米致几十微米的厚度,为微型化零件在微电机中的应用提供了有效方案。
搜索关键词: 一种 矫顽力 掺杂 fept 薄膜 制备 方法
【主权项】:
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