[发明专利]一种晶圆双面电镀铜厚膜设备有效

专利信息
申请号: 202110147539.X 申请日: 2021-02-03
公开(公告)号: CN112962129B 公开(公告)日: 2023-04-14
发明(设计)人: 刘青云 申请(专利权)人: 深圳市永源微电子科技有限公司
主分类号: C25D7/12 分类号: C25D7/12;C25D17/06;C25D21/04
代理公司: 深圳市兰锋盛世知识产权代理有限公司 44504 代理人: 罗炳锋
地址: 518104 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种晶圆双面电镀铜厚膜设备,其结构包括主机架、箱门、支撑台面、电镀装置、控制面板、警示灯,主机架下端右侧表面与箱门相铰接,并且主机架内部中端焊接有支撑台面,铜棒的下端处于放置装置内部,铜棒进行电解,吸附在晶圆的表面,空腔针体对气泡进行刺破,从排气孔往上端外侧进行排出,防止电镀的过程中晶圆表面的铜厚膜形成针孔,通过装夹块进行挤压,装夹块对晶圆外侧四个方位进行独立固定,从而将晶圆平稳的放置在电解槽内部,避免晶圆在进行电镀铜的过程中发生倾斜,提高晶圆表面电镀铜的均匀性,铜金属元素分散进入到下喷嘴内部,吸附在晶圆下表面,对晶圆下表面进行均匀的电镀铜。
搜索关键词: 一种 双面 镀铜 设备
【主权项】:
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