[发明专利]一种高真空维持的液氦杜瓦在审

专利信息
申请号: 202110158505.0 申请日: 2021-02-05
公开(公告)号: CN112815226A 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 杜希阳;艾青;梁志炜;冯苌春 申请(专利权)人: 氢合科技(广州)有限公司
主分类号: F17C1/12 分类号: F17C1/12;F17C13/00
代理公司: 广东广盈专利商标事务所(普通合伙) 44339 代理人: 李俊
地址: 511300 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种高真空维持的液氦杜瓦,液氦杜瓦包括真空外腔体、液氦腔体和液氦径管;真空外腔体的外表面上设置有真空电接头和抽真空口,真空电接头延伸至真空夹层,抽真空口与真空夹层连通;真空外腔体的内表面上至少设置有一个吸气装置,吸气装置与真空电接头电性连接;液氦腔体的外表面上至少设置有一个吸附装置,吸附装置中内置有吸附介质,且吸附装置附带有加热装置,加热装置与真空电接头电性连接。在本发明实施例中,所述液氦杜瓦能长时间维持高真空度,能达到很好的绝热效果,能长期保持低挥发率,具有很好的实用性。
搜索关键词: 一种 真空 维持 液氦杜瓦
【主权项】:
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