[发明专利]掩模版清洗液及掩模版的清洗方法在审
申请号: | 202110160957.2 | 申请日: | 2021-02-05 |
公开(公告)号: | CN113009779A | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 阳超;司继伟;杜武兵;雷蒙;陈德浇 | 申请(专利权)人: | 深圳市路维光电股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 刘燚 |
地址: | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了掩模版清洗液及掩模版的清洗方法。该掩模版清洗液包括非离子表面活性剂、脂肪酸酯和水,非离子表面活性剂选自脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧丙烯醚中的至少一种。根据本申请实施例的掩模版清洗液,至少具有如下有益效果:本方案以脂肪醇聚氧乙烯醚和/或脂肪醇聚氧丙烯醚作为表面活性剂,有效降低掩模版表面的张力;同时辅以脂肪酸酯作为润湿分散剂降低表面的电子活跃度从而使整体呈现相对稳定的态势。特定结构非离子表面活性剂的乳化能力与脂肪酸酯的稳定能力相互配合,将掩模版表面的雾状油污乳化成小颗粒后,配合清洗工具的擦拭,能够实现高效的清洁,并且不会对掩模版本身的功能造成损坏,不会破坏镀层的疏水疏油特性。 | ||
搜索关键词: | 模版 清洗 方法 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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