[发明专利]薄膜厚度的测试方法、测试系统、存储介质及电子设备有效
| 申请号： | 202110162038.9 | 申请日： | 2021-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN112833801B | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 邓鹏飞;陆朋朋 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开提供一种薄膜厚度的测试方法、测试系统、存储介质及电子设备，涉及半导体技术领域。所述薄膜包括图案化膜层和位于所述图案化膜层表面的待测膜层，所述测试方法包括：收集第一光谱，以得到所述图案化膜层的参数；调节所述第一光谱中所述图案化膜层的参数，并锁定所述图案化膜层的参数，以形成目标薄膜；检测所述目标薄膜的光谱，得到第二光谱；根据所述第二光谱确定所述待测膜层的厚度。本公开的测试方法可提高薄膜厚度的测试精度。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 厚度 测试 方法 系统 存储 介质 电子设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长鑫存储技术有限公司，未经长鑫存储技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110162038.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
