[发明专利]一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺在审
| 申请号： | 202110165012.X | 申请日： | 2021-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN112877670A | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 刘思远 | 申请（专利权）人： | 合肥市辉耀真空材料有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/26 |
| 代理公司： | 合肥广源知识产权代理事务所(普通合伙) 34129 | 代理人： | 胡丽虹 |
| 地址： | 231100 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及植珠膜真空蒸镀技术领域，具体涉及一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺；包括真空仓真空仓中设置有放卷辊、收卷辊、若干导向辊，放卷辊上设置有植珠膜，真空仓的内腔下端设置有蒸镀室，主鼓的下端鼓面伸入蒸镀室中，位于主鼓正下方的蒸镀室中有坩埚蒸发装置，坩埚蒸发装置包括容置槽，容置槽中设置有若干排坩埚，每排坩埚呈平行设置且每排坩埚与植株膜的牵引方向相垂直，每排坩埚与相邻一排的坩埚之间交错设置，坩埚的外围套设有螺旋式感应加热线圈；本发明能够保证镀在植株膜面上的镀层厚度更加均匀，有效解决了现有真空蒸镀设备无法适用于植株膜高质量镀膜的不足，同时有效降低了植珠膜镀膜过程中的原料浪费。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 坩埚 蒸发 植珠膜 真空 设备 镀膜 工艺 | ||
【主权项】：
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