[发明专利]一种化学机械抛光机及其操作方法在审
申请号: | 202110165328.9 | 申请日: | 2020-01-13 |
公开(公告)号: | CN112959221A | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 刘和平 | 申请(专利权)人: | 刘和平 |
主分类号: | B24B55/06 | 分类号: | B24B55/06;B24B27/00;B24B37/30;B24B37/10;H01L21/321;H01L21/67 |
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地址: | 100054 北京市丰*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种化学机械抛光机及其操作方法,其结构包括机箱、工作台、工件放置座、密封抛光结构、机座、驱动箱,工作台水平安装于机箱上端,工件放置座嵌入安装于工作台内侧,密封抛光结构位于工件放置座正上方,密封抛光结构竖直安装于机座下端,驱动箱嵌入安装于机座内侧,密封抛光结构包括密封结构、连接座、卡板、旋转轴、活动结构,密封结构水平安装于连接座下端,旋转轴竖直安装于卡板上端,活动结构活动连接于连接座上端,本发明在连接座下端设置了密封结构,防止粉尘飘出,进而保护了工作台内侧,使工件放置座的切换更加顺畅;在连杆结构下端设置了密封板,防止粉尘飘出,并且更好的对粉尘进行收集,减少了粉尘的附着。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 机械 抛光机 及其 操作方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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