[发明专利]一种掩膜板及其制作方法在审
| 申请号： | 202110166568.0 | 申请日： | 2021-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN112859512A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 钱超;余洋;黄斌;植启东 | 申请（专利权）人： | 南京深光科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;G03F1/68;G03F9/00 |
| 代理公司： | 南京行高知识产权代理有限公司 32404 | 代理人： | 肖念 |
| 地址： | 210038 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于掩膜板技术领域，尤其是涉及一种掩膜板及其制作方法，包括掩膜板本体和掩膜板边框和掩膜板基底，掩膜板基底层叠在掩膜板本体的背部，掩膜板基底与掩膜板本体粘合，掩膜板本体的侧边嵌合有贴条，掩膜板本体通过贴条与掩膜板边框粘合；掩膜板边框上分有第一准备区和第二准备区，第一准备区和第二准备区长度大于其宽度，第一准备区和第二准备区上刻有校准图形。优点在于：本发明在掩膜板进行张网和焊接时具有更好的可控性，从而使得掩膜板整体降低作业时的次品率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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