[发明专利]气体幕帘元件、传送气体的导管系统与传送气体的方法在审
申请号: | 202110172337.0 | 申请日: | 2021-02-08 |
公开(公告)号: | CN113913784A | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
发明(设计)人: | 李政勳;黄茂洲 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/503;C23C16/505 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 一种气体幕帘元件、传送气体的导管系统与传送气体的方法,气体幕帘元件包含一导管衬套和一导管接头。导管衬套包含通过导管衬套的一螺旋形通风口。导管接头围绕导管衬套的一部分,导管接头包含与导管衬套的螺旋形通风口呈流体连通的多个气体进入端口。用于从气体容纳腔室,其用于处理形成半导体元件的基材,传送气体的导管系统,包含具有螺旋形通风口的衬套。导管系统利用气体的幕帘以防止或减少材料至(从气体容纳腔室传送气体的)导管的内部表面上的沉积。 | ||
搜索关键词: | 气体 元件 传送 导管 系统 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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