[发明专利]投射装置、三维成像系统、三维成像方法及电子产品在审

专利信息
申请号: 202110182075.6 申请日: 2021-02-08
公开(公告)号: CN112817010A 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 臧凯;马志洁;张超 申请(专利权)人: 深圳市灵明光子科技有限公司
主分类号: G01S17/894 分类号: G01S17/894;G01S7/481;G01S7/484;G01S7/486;G01S7/4911;G01S7/4912
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 杨欢
地址: 518051 广东省深圳市南山区西丽*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请涉及一种投射装置、三维成像系统、三维成像方法及电子产品。所述投射装置包括:驱动电路板;2*N+1个光发射阵列,N为正整数;每个光发射阵列包括至少一个光发射条,2*N+1个光发射阵列的光发射条沿第一方向周期排列;每个光发射条包括沿第二方向排列的至少两个光发射器;与2*N+1个光发射阵列一一对应的2*N+1条控制线,各条控制线与对应的光发射阵列中的每个光发射器连接,用于控制对应的光发射阵列中的每个光发射器在同一时刻通入驱动信号并在通入驱动信号时发射光线;2*N+1条控制线中至多2*N条控制线在同一时刻通入驱动信号。采用本申请能够提高三维成像系统正确探测物体距离的成功率和精度。
搜索关键词: 投射 装置 三维 成像 系统 方法 电子产品
【主权项】:
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