[发明专利]有机金属加成化合物以及使用其制造集成电路的方法在审

专利信息
申请号: 202110210695.6 申请日: 2021-02-25
公开(公告)号: CN113402544A 公开(公告)日: 2021-09-17
发明(设计)人: 柳承旻;金在员;朴圭熙;曹仑廷;斋藤和也;小出幸宜;真锅芳树;青木雄太郎;内生藏广幸;布施若菜 申请(专利权)人: 三星电子株式会社;株式会社ADEKA
主分类号: C07F9/09 分类号: C07F9/09;C07F9/00;C23C16/18;C23C16/455
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 贺卫国
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了有机金属加成化合物以及制造集成电路(IC)器件的方法,该有机金属加成化合物由通式(I)表示:通式(I)在通式(I)中,R1、R2和R3各自独立地为C1至C5烷基,R1、R2和R3中的至少一个为其中至少一个氢原子被氟原子取代的C1至C5烷基,M为铌原子、钽原子或钒原子,X为卤素原子,m为3至5的整数,并且n为1或2。
搜索关键词: 有机 金属 加成 化合物 以及 使用 制造 集成电路 方法
【主权项】:
暂无信息
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