[发明专利]反射型阵列基板及其制备方法、显示装置在审
| 申请号： | 202110221019.9 | 申请日： | 2021-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN113031355A | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 郭康;谷新 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/136 | 分类号： | G02F1/136;G02F1/1335;H01L27/12;H01L21/84 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 解婷婷;曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种反射型阵列基板及其制备方法、显示装置。反射型阵列基板包括依次叠设的衬底基板、阵列结构层和结构色层，所述结构色层包括结构层，所述结构层包括多个结构阵列，每个结构阵列包括多个子阵列，每个子阵列对应一个子像素，每个子阵列由多个高度相同的纳米柱组成，用于反射一种颜色光。相比使用彩膜层的方案，可以提高显示亮度。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
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