[发明专利]流体温度控制装置及光刻设备在审
| 申请号： | 202110243411.3 | 申请日： | 2021-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN113359896A | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 张利;周二虎;曹红波 | 申请（专利权）人： | 北京华卓精科科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G05D23/20 | 分类号： | G05D23/20;F16L41/03;F16L41/16;F16K11/02;F16K11/22;F17D1/08;F17D3/01;F17D3/18;G03F7/20;H05K7/20;H02K9/193 |
| 代理公司： | 北京荟英捷创知识产权代理事务所(普通合伙) 11726 | 代理人： | 李梦宁 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种流体温度控制装置及光刻设备，涉及半导体加工领域，为解决现有光刻设备无法满足不同部件的不同冷却需求的问题而设计。该流体温度控制装置包括温水分流系统、冷水分流系统和控制阀，温水分流系统包括第一温水入口、第一温水出口和第二温水出口，冷水分流系统包括第一冷水入口、第一冷水出口和第二冷水出口；控制阀包括第二温水入口、第二冷水入口和第一混合水出口，第二温水入口与第二温水出口连通，第二冷水入口与第二冷水出口连通，第一混合水出口被配置为向光刻设备的第三组件通入温水与冷水的混合水。本发明提供的流体温度控制装置及光刻设备能够满足不同部件的不同冷却需求。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 温度 控制 装置 光刻 设备 | ||
【主权项】：
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