[发明专利]一种遮罩结构及隔离柱制作方法在审
申请号: | 202110245246.5 | 申请日: | 2021-03-05 |
公开(公告)号: | CN113161508A | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 温质康;乔小平;苏智昱 | 申请(专利权)人: | 福建华佳彩有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/52;C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L27/32 |
代理公司: | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 | 代理人: | 林祥翔;徐剑兵 |
地址: | 351100 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明公布一种遮罩结构及隔离柱制作方法,遮罩结构包括第一掩膜框、第二掩膜框和非镂空区域;所述第一掩膜框围绕所述非镂空区域,所述第一掩膜框和所述非镂空区域具有间隔,所述第一掩膜框和所述非镂空区域之间的间隔为镂空区域;所述第二掩膜框设置在所述第一掩膜框的顶部和所述非镂空区域的顶部上,所述第二掩膜框围绕所述非镂空区域,所述第二掩膜框上设置开孔,所述开孔位于镂空区域的上方,所述开孔用于作为薄膜材料沉积的通道。上述技术方案通过第二掩膜框来定位第一掩膜框和非镂空区域,当薄膜材料从第一掩膜框的顶部方向下沉积时,薄膜材料通过开孔和镂空区域沉积在下面的发光器件上,并形成隔离柱,可以减小了阴影效应的影响。 | ||
搜索关键词: | 一种 结构 隔离 制作方法 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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