[发明专利]掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法在审

专利信息
申请号: 202110268167.6 申请日: 2021-03-12
公开(公告)号: CN113406856A 公开(公告)日: 2021-09-17
发明(设计)人: 诸沢成浩 申请(专利权)人: 爱发科成膜株式会社
主分类号: G03F1/26 分类号: G03F1/26;G03F1/80
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 辛雪花;周艳玲
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法。本发明的掩模坯为具有成为相移掩模的层的掩模坯。掩模坯具有:相移层,层叠于透明基板;蚀刻停止层,设置在比所述相移层更远离所述透明基板的位置上;和遮光层,设置在比所述蚀刻停止层更远离所述透明基板的位置上。所述相移层含有铬。所述遮光层含有铬和氧。所述蚀刻停止层含有硅化钼和氮,并且在膜厚方向上靠近所述遮光层的位置上具有氮浓度达到峰值的峰值区域。
搜索关键词: 掩模坯 相移 制法
【主权项】:
暂无信息
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